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等離子清洗設備的構造與運行過程

作者:等離子清洗機發表時間:2017-06-27 16:41:39瀏覽量:7452

根據用途的不同,可選用多種構造的等離子清洗設備,并可通過選用不用種類的氣體,調整裝置的基本結構大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點擊、氣體導入系統、工作傳送系統和控制系統等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉油泵,高頻電源通常用13.56MHz的無線電波,設備的運行過程如下:
文本標簽:
  等離子清洗設備的基本構造:
  根據用途的不同,可選用多種構造的等離子清洗設備,并可通過選用不用種類的氣體,調整裝置的基本結構大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點擊、氣體導入系統、工作傳送系統和控制系統等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉油泵,高頻電源通常用13.56MHz的無線電波,設備的運行過程如下:
 ?。?)被清洗的工件送入真空室并加以固定,啟動運行裝置,開始排氣,使真空室的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要2min。
 ?。?)向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在100pa。根據清洗材質的不用,可分別選用氧氣、氫氣、或氮氣等氣體。
  (3)在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電而發生離子化和產生等離子體。讓在真空室產生的等離子體完全籠罩在被處理工件,開始清洗作業。一般清洗處理持續幾十秒到幾分鐘。
  (4)清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及汽化的污垢排出,同時向真空室內鼓入氣體,并使氣壓升至一個大氣壓。
2017-06-27 7452人瀏覽

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